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Effect of annealing on metastable shallow acceptors in Mg-doped GaN layers grown on GaN substrates

机译:退火对在GaN衬底上生长的Mg掺杂GaN层中亚稳态浅受体的影响

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摘要

Mg-doped GaN layers grown by metal-organic vapor phase epitaxy on GaN substrates produced by the halide vapor phase technique demonstrate metastability of the near-band-gap photoluminescence (PL). The acceptor bound exciton (ABE) line possibly related to the C acceptor vanishes in as-grown samples within a few minutes under UV laser illumination. Annealing activates the more stable Mg acceptors and passivates C acceptors. Consequently, only the ABE line related to Mg is dominant in PL spectra for the annealed samples. The temporal changes in PL are permanent at low temperatures; however, they can be recovered after heating to 100 K or higher.
机译:通过金属有机气相外延在卤化物气相技术生产的GaN衬底上生长的Mg掺杂的GaN层证明了近带隙光致发光(PL)的亚稳定性。在紫外激光照射下,在几分钟内生长的样品中可能与C受体相关的受体结合激子(ABE)线消失了。退火会激活更稳定的Mg受体并钝化C受体。因此,退火样品的PL光谱中仅与Mg有关的ABE谱线占主导地位。 PL的时间变化在低温下是永久的。但是,加热到100 K或更高温度后可以将其回收。

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